配線形成およびスルーホールめっき等に用いられる。ラインの構成はドリル加工のバリやレーザー加工のスミアの除去を行うデスミア装置、電解メッキのシード層の成膜を行う無電解Cuめっき装置、ビアフィリング、配線形成を行う電解Cuめっき装置、Cu配線と有機絶縁膜との密着を確保するための積層前粗化処理装置を有する
材料加工の処理を水平搬送して処理するラインの総称
工程はドライフィルムおよびソルダーレジストの露光後の現像工程。サブトラクティブプロセスにおける配線形成を行うためのエッチング工程(CuCl2)。配線形成後の不ドライフィルム剥離工程(アミン系剥離液)。Cu箔の厚さを調整するハーフエッチング工程から構成される